772

Температура в зоне контакта достигает 1500 К при V = 1500 м/с.

Подогрев газа в подогревателе 3 (рис. 2.2) до 300–400 К ведет к повышению скорости достижения числа Маха М = 1, повышению плотности устойчивых химических связей при контакте частицы с деталью. Применение He и Н2, имеющих скорости звука больше воздуха, экономически дорого. Нагрев воздуха в подогревателе 3 до 700 К позволяет осаждать V, Co, Nb, Mo, W. Процесс нанесения покрытия состоит из:

1.Механического разрушения оксидных пленок и очистки области контакта.

2.Физического разогрева тормозящейся частицы с ударным нагружением.

3.Пластическому течению частицы с локальным тепловыделением в зоне контакта.

Основные технологические параметры процесса: адгезия покрытия, производительность процесса и КПД напыления К (отношение доли напыленного материала М к массе потока частиц на деталь М). На рис 2.3 приведены зависимости К от скорости частиц V для ряда металлов.

Рис. 2.3. Зависимость КПД «К» от скорости частиц «V» для ряда металлов

Из приведенных зависимостей следует, что для каждого осаждаемого металла есть свое VRР, ниже которой есть лишь эрозия поверхности детали, выше — напыление.

Кmax ~ 0,8 при V ≥ 103 м/с. При высокой скорости осаждения (поток многих частиц на каждую зону поверхности детали) резкое снижение процесса активации поверхности ведет к снижению Vкр на 20–25 %. На рис. 2.3 справа приведены экспериментальные зависимости К(V) для ряда осаждаемых металлов при холодной смеси (газовая смесь Не+ воздух), слева — нагретый воздух (гелий дорог). Видно, что предварительный небольшой нагрев газа в нагревателе 3 (рис. 2.2) смещает значение Vкр до 30 %, что важно для практики.

Нагрев стальных деталей до 900–1200 К ведет к росту скорости напыления. При этом, однако, на детали растет оксидная пленка (до 50 мкм), но она срывается скоростной струей газа, унося часть уже напыленных частиц порошка.

Покрытия обладают чешуйчатой структурой. Поры равномерны по объему, их размер << d частиц. Адгезия покрытия достаточно высока, не уступая газотермическим методам напыления (табл. 2.1).

Таблица 2.1

Покрытие	Подложка	ТПОДЛ, К	Метод	Метод	Адгезия, МПа
			напыления	испытаний
Al2 O3	Cт. 20	Комн.	Плазменный	Клеевой	10
Al	Al	—	—	—	9
Al	Cu	—	—	—	15
Al	Cт. 65Г	—	—	—	19
Al	Cт. 45	—	Газопламен.	—	10
Al	—	300	ХГН	—	62–67
Al	ЛС-57	—	—	—	64–65
Al	Х18Н9Т	—	—	—	62–65
Al	Cu	—	—	Штифт.	30–40
Al	Ст. 35	—	—	—	20–30
Al	Д16Т	—	—	—	50–55
Al	ЛС-59	—	—	—	38–66
Сu	Сu	—	—	Клеевой	40–65
Zn	Cu	—	—	—	12–15
Al	Cu	—	—	—	10–20
V	Cт. 35	730	—	—	25
Ni	Cт. 35	700	—	—	35

13

Данные по микротвердости покрытий приведены в табл. 2.2.

Таблица 2.2

Покрытие	Подложка	Н ПОКР, МПа	Н ПОДЛ, МПа
Al	Cт 20	500–600	1200–1400
Al	Cт 40Х	700	1900–2100
Сu	Сu	1100–1350	900–1100
Сu	Д16	1500	1350
Ni	Д16	1750	650
Со	Д16	1600	600
Fe	Д16	1700	700

Данные по плотности осаждаемых покрытий приведены в табл. 2.3.

Таблица 2.3

Покрытие	Способ получения	Плотность покрытия, г/см3
Al	Литье	2,56
Al	Газопламенное напыление	2,42
Al	ХГН	2,55–2,58

Видно, что плотность покрытий близка к теоретической. Пористость покрытий лежит в пределах 0,5–15 % в зависимости от режима осаждения.

В кислых средах покрытия из Al, осажденные методом ХГН, снижают скорость коррозии в 30 раз, в морской воде покрытия ХГН из Ni Zn — до 50 раз.

Возможно получение покрытий толщиной от нескольких микрометров до нескольких миллиметров при самой высокой из известных методов скорости осаждения — до 250 кг /ч по порошку.

Коэффициент однократного использования порошка 50–80 %, но неприлипший (отраженный, особенно на криволинейных поверхностях) порошок в технологическом цикле возвращается в голову процесса.

Промышленная установка для нанесения покрытий методом ХГН приведена на рис. 2.4.

На рис. 2.5 приведена фотография ручного пистолета (форкамера и сверхзвуковое сопло) для ручного напыления защитных, антикоррозионных и других покрытий. Это особенно важно при нанесении таких покрытий на внутренние поверхности котлов, рессиверов, труб большого диаметра и др.

Производственные технологические процессы:

1.Нанесение антикоррозионных металлических и металлополимерных покрытий на трубы, прокат, корпуса судов и др. При этом тре-

буется иглофрезерная очистка поверхности. Производительность процесса — до 5 м2 поверхности за час при толщине покрытия 0,2 мм, расход воздуха — до 2 м3/мин, потребляемая мощность — до 30 кВт. Осаждаемые покрытия — Ni, Al, Cu, Sn, Zn, Fe, V, Ti и др.

2.Нанесение антифрикционных покрытий на подшипники

	скольжения.	Рис. 2.5. Ручной пистолет для
	3. Нанесение диэлектрических полимерных покрытий на метал-
		напыления покрытий
	лы и керамику.

14

4. Нанесение защитных покрытий на внутренние поверхности труб, в том числе длинномеров (до 12 м) при диаметрах труб более 100 мм. Такие покрытия из Al, Sn, Zn имеют адгезию до 4 кг/мм2, толщину до 300 мкм, и позволяют снизить скорость коррозии до 30 раз, в морской воде — до 100 раз.

На рис. 2.6 приведена промышленная установка для поверхностного меднения стальных клемм коммутационных линий на железнодорожном транспорте. Экономия при отказе от изготовления этих клемм только из меди достаточно высока.

На рис. 2.7. приведен чертеж клеммы с зонами меднения. На фотографии (рис. 2.8) приведены указанные клеммы различных размеров.

Рис. 2.6. Установка для меднения клемм

Рис. 2.7. Зоны меднения клеммы

Рис. 2.8. Промышленные клеммы

(1, 2, 3)

На рис. 2.9 приведена промышленная установка для нанесения защитных покрытий на наружные поверхности металлических труб методом ХГН. На рис. 2.10 приведен процесс нанесения этих защитных покрытий на трубы.

Рис. 2.9. Установка для нанесения защитных покрытий на трубы

Рис. 2.10. Процесс нанесения защитных покрытий на трубы

15

3. ЭЛЕКТРОННО–ЛУЧЕВАЯ ОБРАБОТКА ДЕТАЛЕЙ [2, 6, 12]

Электронно–пучковые технологии применяются в машиностроении для:

1.Резки и раскроя металла.

2.Поверхностного упрочнения деталей.

3.Осаждения покрытий перепылением.

Типовая схема наиболее распространенной линейной электронно-пучковой установки приведена на рис. 3.1.

Рис. 3.1. Принципиальная схема линейной электронно-пучковой установки: 1 — катод; 2 — анод; 3 — фокусирующая система;

4 — отклоняющая система; 5 — деталь; 6 — вакуумная камера

Катод — W, ТW = 2400–2600 К, UA–K — до 150 кВ, Р = 10-1–10-3 Па, диаметр пятна 50–100 мкм, удельная мощность Wуд = 104–106 Вт/см2.

Основные энергетические параметры электронных ускорителей: энергия электронов εЕ — 0,5–10 МэВ, мощность — 0,3–80 кВт.

Регулировка выходных технологических параметров установки производится путем изменения подводимой мощности, диаметра пятна, управления режимами работы фокусирующих и отклоняющих систем.

Ускорители электронов имеют большое число модификаций (линейные, циклические, индукционные, волноводные и др.), однако для технологии важны их технические параметры. КПД лучших ускорителей — до 70 % (коэффициент передачи энергии пучка в нагрев поверхностного слоя детали). Электронно-пучковые технологии являются обычно вакуумными. С целью технологичности процесса обработки, разработаны устройства вывода пучка в атмосферу (рис. 3.2). Выпуск пучка проводится обычно через фольгу (Be, Al, Ti) толщиной 20–50 мкм и диаметром d ~ 1 мм. Для таких установок при энергии пучка ε0 ~ 1,5 МэВ глубина проникновения электронов в деталь ~ 1 мм. После выпуска пучок расширяется, на расстоянии 20 см от места выхода его диаметр ~ 5 см. На расстоянии до 20 см пучок теряет до 10 % своей энергии, однако остальные 90 % идут на нагрев детали.

Рис. 3.2. Вывод электронного пучка в атмосферу

Основными технологическими характеристиками ЭПУ являются удельная мощность Wуд (Вт/см2) и диаметр пучка d м. На рис. 3.3 в координатах «удельная мощность пучка Wуд Вт/см2 —

16

диаметр пучка d мм» приведены области применения электронных пучков в зависимости от этих базовых параметров.

Рис. 3.3.

1 — выделка отверстий, пазов; 2 — испарение с перепылением; 3 — сварка; 4 — зонная плавка; 5 — плавка; 6 — закалка

Основные технические параметры обработки — ток пучка I (A), ускоряющее напряжение U (B), ток фокусирующей системы I (Ф), расстояние от детали до центра фокусировки l (м), скорость движения луча v (м/с), диаметр луча d (м).

Погонная энергия при этом определяется как Q = 0,24IU/v.

Наиболее важен и трудноопределяем диаметр пучка d. Наиболее надежны опытные методы его измерения. Все опыты подтверждают, что распределение плотности тока по сечению луча нормальное:

f(r) = f(0) exp(–kr2),

(3.1)

здесь f (0) — максимальное значение плотности тока;

k= 1/2 σ2,

σ— среднеквадратичное отклонение плотности тока от нормального.

Максимальная глубина проникновения электронов в металл (соотношение Шоланда):

δ = 2,35٠10– 12U2/ρ.

(3.2)

Глубина зоны максимального энерговыделения h ~ 0,75δ и распределение плотности энерговыделения по обеим сторонам от точки h близко к нормальному.

С ростом величины ускоряющего напряжения U значение h быстро растет, а температура поверхности ТПОВ падает. (Скорость нагрева превышает скорость теплопередачи). В табл. 3.1 приведены значения температуры поверхности металлов при удельной мощности Wуд =106 Вт/см2 и длительности импульса обработки τ = 10–5 с для ряда энергий электронного пучка U.

Таблица 3.1

Металл	Ρ, г/см3	ТКИП, К	U = 20 кВ	U = 50 кВ	U = 100 кВ	U = 150 кВ
сталь	7,9	3320	5100	3450	860	145
титан	4,5	3770	5040	3100	660	70

Как видно, при Z = h и U > 100 кВ возникает взрывное вскипание металла в глубине слоя.

Для технологии большое значение имеет параметр d/δ. Оплавление и сверление отверстий ведут только при d > 2δ. После отключения импульса значение Тmax (при Z = h) со временем уменьшается и смещается к поверхности.

В технологиях ЭЛО используют понятия эффективного КПД ηэ и термического КПД ηт:

ηэ = Q/IU,

(3.3)

где Q — энергопоток на поверхность детали (Вт).

Этот КПД определяет, какая доля мощности, потребляемой от «розетки», превращается в тепловую энергию пучка.

ηт = vFρSm/Q,

(3.4)

где v — скорость движения луча; F — площадь обработки; Sm =

= Cp Tm — теплотосодержание слоя; Q = Qн + Qм — сумма тепла, идущего на полезный нагрев в слое и теплопотери (теплопроводность, конвекция и др.). Этот КПД определяет долю подведенно-

17

го к слою тепла, которая идет на нагрев слоя, от тепловой мощности луча. Техника позволяет приблизить значение ηэ к 1, в технологических установках ηэ ~ 0,7–0,9, но ηт = 0,3–0,48.

Существует критический уровень qкр ~ 106 Вт/см2, выше которого полусферическое проплавление сменяется «кинжальным», что необходимо при сверлении отверстий.

3.1. Взрывное вскипание

При взрывном вскипании над поверхностью начальной лунки плотность материи падает с 1–10 до 10–3–10–5 г/см3 (пар) при этом из-за быстроты процесса возникает волна сжатия (Р > 100 атм) с последующим разлетом парожидкокапельной среды со скоростями до 103 м/с (пар), до 102 м/с (капля). Такая плотная парогазовая «пробка» в канале реза рассеивает пучок, и он уходит на стенки реза. Это, в свою очередь, ведет к резкому снижению скорости плавления дна зоны обработки, снижению давления в «пробке», восстановлению фокусировки пучка и последующему импульсу проплава. Процесс проплава является, следовательно, пульсационным. При резке Al и U = 100 кэВ начальные пульсации имеют частоту f = 103 Гц, уменьшаясь в несколько раз при глубине реза ~ 1,3 см. При сквозном проплаве (лист) обычно выходной диаметр d2 < d1.

Отсюда следует, что применение импульсной ЭЛО резко повышает энергетическую эффективность использования пучка. Ширина реза b ~ αH, где H — глубина реза; α — экспериментально определяемый коэффициент пропорциональности.

С ростом ε0 глубины выработки Н и ширина реза b растут линейно. Наибольшую глубину Н и наименьшую ширину b получают, заглубляя фокусировку пучка под поверхность на глубину 0,1– 0,3 мм.

3.2. Особенности ЭЛО

При ЭЛО имеет место электронная эмиссия из зоны обработки. Эти потери могут достигать 50 % исходной мощности пучка. В этой связи защита от излучения необходима.

При Wуд > 107 Вт/см2 (см. рис. 3.3) в зоне обработки образуется плотная неравновесная плазма. Энергия пучка становится достаточной для ионизации, диссоциации, электронного возбуждения паров испаряемого материала. Энергопотери пучка при прохождении через плазменный сгусток много ниже, чем в твердом материале, они максимальны на глубине ~ 0,5δ. Это ведет к резкому росту давления и выбросу плазменного сгустка из канала. Ясно, что процесс перегрева с выбросом массы носит пульсационный характер.

При Wуд < 106 Вт/см2 (сварка, упрочнение и др.) плазменные процессы несущественны.

3.3.Технологические процессы

сприменением импульсной ЭЛО

3.3.1.Осаждение покрытий распылением в е-пучке

Метод осаждения — перепыление термоиспарением мишени в вакууме. Традиционные методы термоиспарения стационарны. Импульсная методика испарения полностью сохраняет стехиометрию напыляемого материала при высокой (до 10 мкм/с) скорости осаждения. При этом тепло идет в основном на сублимацию материала испарением со дна узкого и глубокого канала. При распылении Al скорость осаждения до 1 мм/с (в импульсе). Обычно f = 100–1000 Гц, W ~ 3–7 кВт. Мишень может состоять из отдельных зон различных соединений, и программно переводя луч на каждую из зон, получают покрытия заданного сложного состава. Технологические параметры таких установок: U = 25–30 кэВ, W =

= 5 кВт, Wуд ~ 105–106 Вт/см2, τимп ~ 1–50 мс, f = 1–200 Гц.

3.3.2. Сварка

Вакуумная сварка электронным пучком — известная технология. Она обычно осуществляется пучком низкоэнергетических электронов (до 200 кэВ) в вакуумных камерах при давлениях менее 10 Па. Наличие вакуумной камеры — существенное усложнение процесса, сдерживающее широкое распространение электронно-лучевой сварки из-за ограничения размеров свариваемых деталей, размещения в той же камере поворотных манипуляторов для перемещения деталей, создания шлюзовых камер и др. Сварка при атмосферном давлении проста и технологична. При этом потери металла из ванны расплава значительно ниже, чем в вакууме. Для такой сварки формируют пучок электронов, который на расстояниях ~ 10–15 см от выпускного устройства имеет энергию выше 1 МэВ. При сварке в защитной атмосфере Не и при значительно меньших расстояниях от выпускной диафрагмы 5–20 мм проводят сварку при атмосферном давлении при энергиях пучка 150–

18

300 кэВ. При этом на поверхности свариваемых деталей Wуд > 105 Вт/см2, и реализуется сварка с глубоким «кинжальным» проплавлением.

Достоинством такой сварки является ненужность предварительной разделки сварочного шва. Нанесение флюсов только улучшает качество шва. Толщину шва можно менять от 5 до 20 мм за проход. Скорость сварки превышает 2,5 м/мин и зависит от толщины свариваемых материалов, мощности пучка, профиля шва. В табл. 3.2 приведены данные по глубине сварного шва для ряда металлов.

19

Таблица 3.2

				Мощность пучка, кВт
Материал		Р = 2 · 102 Па					Р = 105 Па
	10		25	40	75	10	25	40	75
Дюралюминий	40		80	105	140	10	23	30	40
Медь	10		26	45	70	6	16	24	32
Сталь 12Х 18Н10Т	17		42	66	105	8	20	27	37

3.3.3. Закалка

Возможность поверхностной закалки на дисперсный мартенсит стальных деталей связана с тем, что эффективная глубина проникновения электронов в сталь часто близка к требуемой глубине закаленного слоя. Так, при диаметре пучка 1 мм, мощности 100 кВт, времени обработки 6·10-5 с слой толщиной 0,4 мм прогревается до ТПЛ. При энергии электронов 1,5 МэВ глубина закалки достигает 1 мм. Упрочнение с автозакалкой (без охлаждающих жидкостей) проводят для плоских и цилиндрических деталей, при этом класс чистоты поверхности после закалки не меняется, т.е. эта операция технологически может быть финишной. Схема закалки плоских деталей приведена на рис. 3.4, а. Сканирующий пучок оставляет на перемещающейся перпендикулярно к направлению сканирования детали закаленную полосу. Ее ширина составляет до 25 см. Схема закалки тел вращения приведена на рис. 3.4, б. Деталь под неподвижным пучком вращается и перемещается по оси с заданными скоростями. Образуется спиральная дорожка упрочнения с автозакалкой, при этом скорость перемещения детали такова, чтобы обеспечить перекрытие соседних витков.

20

а)

б)

Рис. 3.4. Схема закалки деталей:

а — плоские детали; б — тела вращения

Для сталей эвтектоидного класса твердость закаленной зоны достигает 11 ГПа. Предел выносливости сталей, обработанных е-пучком, на ~ 30 % выше, чем у стальных деталей, закаленных традиционными способами. Глубина мартенситной зоны упрочнения для легированных сталей с высокой прокаливаемостью максимальна. Мартенситная зона в них шире, так как занимает промежуточную зону между закаленным слоем и исходным материалом. При этом имеет место резкий переход по твердости между упрочненной зоной и матрицей.

Процесс упрочнения эффективен и производителен (до 200 см2/с), при этом поводки минимальны из-за локально-непрерывной технологии упрочнения.

3.3.4. Наплавка модифицирующих покрытий

Наплавка покрытий на черные и цветные металлы проводится по схеме, аналогичной рис. 3.4, а. Для наплавки используют порошки с флюсующими добавками: карбиды, бориды, нитриды, нержсталь, интерметаллиды ПН70Ю30, ПН85Ю15, ряд самофлюсующихся порошков типа ПГСР и др. Наплавляют детали из стали, меди, титана алюминия и их сплавов. Глубина наплавки за проход составляет 0,5–5 мм. Оптимальна толщина наплавки 1–2 мм, возможно нанесение многослойных покрытий. Производительность наплавки — до 10 м2/ч, т.е. более 150 кг наплавленного металла за час. Вследствие малого времени нагрева и времени контакта расплава с атмосферой окисление наплавляемых компонент и основы незначительно.

3.3.5. Вакуумная плавка

Ее проводят для очистки металлов от летучих примесей и газов.

Обычная вакуумная печь с W–катодом работает при Wуд ~ 106 Вт/см2, Р ~ 10–5 Па, одна пушка мощностью 10 кВт с энергией е-пучка 25 КэВ позволяет переплавлять слитки W, Mo, Ta, Cu, Fe и др. диаметром до 30 мм и длиной до 100 мм.

Промышленная печь с электронным нагревом WP-70/25 имеет следующие параметры:

–рабочий объем печи 1,3 м3;

–рабочее давление в камере переплава 10–6 Па;

–число электронных пушек мощностью по 35 кВт — 2;

–энергия электронов в пучке — 25 кэВ;

–конструктивное расположение печи — вертикальное;

–исходный материал — молотый скрап, пруток, бруски;

–диаметр получаемых слитков — до 40 мм (W), 60 мм (Ta), 150 мм (сталь).

3.4.Промышленные электронные ускорители

Кпромышленным электронным ускорителям, наиболее широко применяемым в машиностроении, относятся ускорители серии ЭЛВ. Они способны работать в непрерывном круглосуточном режиме, удобны и надежны, имеют устройства выпуска пучка в атмосферу. Основные типы этих ускорителей приведены в табл. 3.3.

Таблица 3.3

	Тип ускорителя	Энергия пучка,	Мощность пучка, кВт	Ток пучка, мА
		МэВ
	ЭЛВ–мини	0,2–0,4	20	50
	ЭЛВ–0,5	0,4–0,7	25	40
	ЭЛВ–1	0,4–0,8	25	40
	ЭЛВ–2	0,8–1,5	20	25
	ЭЛВ–3	0,5–0,7	50	100

21

ЭЛВ–4	1,0–1,5	50	40
ЭЛВ–6	0,8–1,2	100	100
ЭЛВ–8	1,0–2,5	90	50
ЭЛВ–6М	0,75–1,0	160	200
ЭЛВ–12	0,6–1,0	400	400

4.ПЛАЗМЕННАЯ ОБРАБОТКА ДЕТАЛЕЙ [2, 4, 10, 11, 14]

Вмашиностроении наиболее широко распространена плазменно-дуговая обработка. Области ее применения:

– осаждение упрочняющих, защитных, антикоррозионных и других покрытий;

– сфероидизация, получение ультрадисперсных порошков;

– плазменная резка и раскрой;

– упрочнение поверхности деталей.

Электродуговые плазматроны имеют высокий электрический и тепловой КПД, нагревают любые газы до температуры 104 К с высокой степенью ионизации газа, компактны, имеют достаточно высокий (сотни часов) ресурс непрерывной работы. Для зажигания дуги между анодом и катодом обычно осуществляют высоковольтный пробой газа в первой (пусковой) секции, после чего устанавливается стационарная электрическая дуга в потоке рабочего газа.

Промышленные плазматроны имеют ряд модификаций:

– с самоустанавливающейся длиной дуги (катод – цилиндрический анод – сопло);

– с фиксированной длиной дуги (катод — цилиндрический анод с уступом);

– наиболее сложный и технологичный плазматрон с межэлектродными вставками.

На рис. 4.1 приведена схема ПМЭВ. Рабочий газ подается с закруткой в прикатодную пусковую секцию, в межэлектродных вставках осуществляется стабилизация плаз-

менного потока регулируемым поддувом того же газа через ряд пористых секций для исключения закорачивания дуги на эти металлические секции, в анодной секции вмонтированы устройства — дозаторы ввода порошка в сформированную плазменную струю.

Здесь нет анодной привязки, типичный диаметр дугового канала — до 12 мм, длина МЭВ — до 70 мм, скорость газа на срезе сопла — до 100 м/с.

Рабочие газы — Ar, N2, H2, воздух, природный газ и др.

Рис. 4.1. Принципиальная схема плазматрона с межэлектродными

вставками:

1 — катододержатель; 2 — катод;

3 — корпус плазмотрона;

4 — межэлектродная вставка;

5 — сопло-анод; 6 — плазменный поток;

7 — изделие

4.1.Нанесение покрытий

Восновном покрытия наносят в турбулентной дуге (с сильной закруткой газа), Работа таких плазматронов наиболее надежна. Однако, пористость покрытий 8–10 %, КПД по порошку 0,4–0,6. Недостатки таких плазматронов:

– из-за быстрого перемешивания с окружающей средой на выходе из сопла имеет место потеря энтальпии струи на 5–6 калибрах, что непригодно при осаждении керамических и других порошков с высокой температурой плавления;

– высокие градиенты V(r) и T(r) ведут к непроплаву части порошка.

Втехнологии такие плазматроны применяют для напыления металлических и других покрытий. Один из таких промышленных плазматронов — ПП-25 с вихревой стабилизацией струи, рабочие газы

—Ar, N2 и др. Производительность напыления по порошку Al2O3 — до 10 кг/ч, дистанция соплодеталь 80–150 мм. Осаждаемые покрытия — любые металлы и их смеси, окислы и т.д. Широко применяются высоколегированные самофлюсующиеся порошки сплавов Ni-Cr-B-Si марок ПГСР2 — ПГСР4. В этих сплавах износостойкость обеспечивается Cr 11–18 %, образующего карбиды. Техноло-

гичность этих сплавов при наплавке определяется высокой смачиваемостью, низкой температурой плавления эвтектики (1050 0С), наличием флюсообразующих компонентов (Si, В).

Более универсальны и эффективны ламинарные плазматроны, со слабой подкруткой рабочего газа и низкой степенью подмешивания холодного газа в МЭВ. Типовой плазматрон имеет параметры: мощность W = 45 кВт, ток I = 200 А, на срезе сопла ТГ до 7000 К, производительность напыления ме-

22