Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Математические модели элементов интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
22
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
14.39 Mб
Скачать

ра. Это соотношение получено путем интегрирования уравнений переноса тока и непрерывности без аппрокси­ маций низкого уровня инжекции. Благодаря тому, что в модели используется интегральный параметр —заряд в базе, удается учесть эффект модуляции проводимости базы, эффект Эрли, зависимость параметров р2у и /г от режима и ряд других эффектов.

Рис. 3.9. Структура

мтегрального транзистора с изолирующим

р—«-переходом.

 

Модель IBIS

является развитием модели Эберса —

Молла для двумерны,х транзисторных структур. Модель позволяет учесть эффекты вытеснения тока эмиттера, бо­ ковой инжекции эмиттера, поверхностные явления и влияние пассивных областей базы и коллектора.

В заключение следует сказать, что, по-видимому, наи­ более успешно для машинного проектирования совре­ менных ИС использование моделей Гуммеля — Пуна и IBIS; в то же время ни одна из известных моделей не решает проблему полностью, поэтому непрерывные по­ иски в этом направлении и в будущем неизбежны.

Модифицированная модель Эберса — Молла. Рассмо­

трим

интегральный

транзистор

(рис. 3.9). В его струк­

туре

можно выделить два

транзистора: основной

пр—и-транзистор

и паразитный рп—р-транзистор.

Эмиттерным переходом паразитного транзистора являет­ ся коллекторный переход основного транзистора, а кол­ лекторным служит изолирующий р—д-переход.

Поскольку изолирующий переход смещен в обратном направлении, активному режиму работы основного пр—/i-транзистора соответствует режим отсечки пара­ зитного и влиянием последнего молено пренебречь. Когда основной транзистор находится в режиме насыщения, паразитный транзистор работает в активном режиме и его надо учитывать.

I l l

В настоящее время имеются две распространенные разновидности модели Эберса—Молла: инжекционная и передаточная. С математической точки зрения обе они идентичны. Разница состоит в том, какие токи выбраны в качестве основных (через основные токи выражаются все другие токи прибора). Ниже будет показано, что благодаря более удачному выбору основных токов пере­ даточная разновидность модели является более простой с точки зрения использования в программах анализа

ИС.

Инжекционная модель представляет собой общеизве­ стную модель Эберса—Молла, в которой основными то­ ками являются токи диодов, моделирующих р—л-пере- ходы. Токи, инжектируемые р—л-переходами, являются экспоненциальными функциями напряжений на перехо­ дах

/ '| =

/ь [е х р (Ц /т^ )--1 ].

(3.22)

где £=Э, /(, /7;

— обратный тепловой ток соответст­

вующего перехода;

/л^— масштабный

коэффициент,

учитывающий отклонение вольт-амперной характеристи­ ки р—л-перехода от идеального закона. Как правило,

[24].

В режиме переключения через каждый р—л-переход помимо статических токов протекают токи, обусловлен­ ные барьерной и диффузионной емкостями. Барьерная емкость нелинейно зависит от напряжения и прибли­ женно описывается выражением

(3.23)

где С0 бар— барьерная емкость р— л-перехода при нуле­ вом смещении {U—0); С0, 0 — параметры, определяемые из условия наилучшего согласования экспериментальной зависимости Ccap=f(U) с величинами емкостей, рассчи­ танными по формуле (3.23). Диффузионная емкость за­ висит от тока 1\, инжектируемого р—л-переходом.

В случае, если коэффициент передачи по току аппрокси­

мируется однополюсной функцией частоты а —Гдгтттт--,

выражение для диффузионной емкости имеет вид

 

сЕаф= 1\ 1т у М * >

(3.24)

 

где fa—характеристическая частота, связанная о пре­

дельной частотой прибора.

В матричном виде система уравнений, описывающих

токи через

выводы

интегрального

транзистора,

имеет

вид

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

I э

 

1

 

- и/

 

1'э

 

In

=

— a.v

I

 

— V

/'к

+

- I n

 

0

 

*PN

1

V п

 

Сэ

о

0

JilUs

*7э

0

о

Us

 

dt

 

 

+ 0

Ск

0

dUK

0

Лу!< о

и*

(3.25)

dt

+

0

0

Сп

dUu

0

0

iCl

Un

 

dt

 

 

переходов

Сэ,

Ci^ и

Сц

в

]

 

 

представляют собой суммы барьерных и диффузионных составляющих.

Эквивалентная электрическая схема, соответствую­ щая системе уравнений (3.25), приведена на рис. 3.10.

Ток между любыми соседними выводами эквива­ лентной схемы складывается из токов диода, модели­ рующего инжекцию р—«-перехода; генератора, управ­ ляемого напряжениями на соседних р—«-перехода^; нелинейной емкости, шунтирующей переход; утечки.

Б передаточной модели Эберса — Молла в качестве основных токов используются токи, собираемые р—«-пе­ реходами. Эти токи в эквивалентной схеме моделируют­ ся генераторами тока *).

Ток, который передается из эмиттера в базу и соби­ рается коллектором, описывается следующим выраже­

нием:

 

/ „ = / s [exp(t/s/?r) - l ] .

(3.26)

Аналогично записывается выражение для тока, который передается из коллектора через базу в эмиттер:

/, = / 5[ехр(£/к/?г) - 1 ] ,

(3.27)

где Is — ток «отсечки».

В дальнейшем рассматривается обычная пр—«-транзистор­ ная структура. В случае необходимости приведенны выражения мо­ гут быть распространенына интегральнуюпрп—р-структуру.

Из (3.26) и (3.27) видно, что основные токи переда­ точной модели описываются выражениями с одним па­ раметром /5, требующим измерений. Для описания основных токов инжекционной разновидности модели необходимо измерить четыре параметра /оо» Л<о, т э>

Рис. 3.10. Эквивалентная схема интегрального транзистора с изоли­ рующим р—«-переходом для режима большого сигнала.

В цепь базы транзистора ответвляется ток

 

л=(/*/РдЖ УР/).

(3.28)

где

и (3/ — нормальный и инверсный

коэффициенты

передачи в схеме включения с общим эмиттером. Токи через выводы эмиттера и коллектора имеют вид

/э = - ( ! + ! / № - К / .

(3.29)

(1 + 1/[5;) /г

(3.30)

Эквивалентная схема передаточной модели Эберса—

Молла,

соответствующая уравнениям

(3.26) —(3.30),

приведена на рис. 3.11.

р—л-перехо-

В динамическом режиме параллельно

дам в

эквивалентную схему рис. 3.11

подключаются

114

барьерные и диффузионные емкости. Барьерные емко­ сти зависят от напряжений на переходах по формуле (3.23) и по сравнению с инжекционным вариантом мо­ дели и не имеют никаких отличий.

Диффузионные емкости зависят от основных токов по следующим формулам:

п

X, v № v + A s )

п

xl ( f l + l s )

,

Оэдиф —

----------- ~ ----------

I Ькдиф —

----------”

где хN, хI — диффузионные постоянные времени в нор­ мальном и инверсном включении.

Рис. 3.11. Эквивалентная схема передаточной модели Эберса— Молла.

Отметим, что постоянные времени tjv и tj характери­ зуют инерционность процессов передачи зарядов неос­ новных носителей от одного перехода к другому, в то время как постоянные времени t aN и *са/ инжекционно-

го варианта характеризуют инерционность не только процессов передачи носителей заряда, но и процессов их рекомбинации у соответствующих переходов.

Сравнивая инжекциониый и передаточный варианты модели Эберса —Молла, можно сделать вывод, что пе­ редаточная модель более удобна для использования

впрограммах анализа ИС по следующим причинам.

1.Вольт-амперные характеристики нелинейных эле­ ментов передаточного варианта модели описываются меньшим числом параметров, для определения которых

требуется меньшее количество измерений.

2. Использование постоянных времени TV и т7 при анализе динамических режимов является более предпочти-

тельным, чем TaV,xe/f поскольку, как показали экспери­

ментальные исследования [45], параметры тN, tj, во-пер- рых, зависят от режима в гораздо меньшей степени, чем

?aV > \ i > и, во-вторых, имеют гораздо меньший раз­ брос значений от прибора к прибору, что повышает до­ стоверность результатов измерений.

В ряде случаев модель Эберса — Молла нуждается в усовершенствовании. Оказывается необходимым учи­ тывать сопротивления диффузионных областей гээ, Гбб, гКн, /пп. сопротивления утечки обратиосмещенных р—л- переходов Л у э, Лук, Л уп, токовые и частотные зависи­ мости коэффициентов усиления по току, модуляцию ши­ рины базы, лавинное умножение носителей в р—«-пере­ ходе, влияние внешних воздействующих факторов (температуры, радиации, рентгеновского излучения и др.) В инжекционном и передаточном вариантах мо­ дели перечисленные эффекты учитываются одинаково. Сопротивления диффузионных областей и утечек р—л- переходов учитываются подключением соответствующих

соппотивлений

в эквивалентную схему, а

остальные

эффекты — с

помощью аппроксимирующих

зависимо­

стей.

 

 

При работе транзистора в режиме большого сигнала имеет место сильная нелинейная токовая зависимость коэффициентов передачи тока в схеме с общим эмиттером (5, а следовательно, и коэффициен­ тов а. входящих в матричное уравнение {рис. 3.12). В модифициро­ ванных моделях Эберса — Молла используются эмпирические зави­ симости коэффициентов р от тока, представленные в той или иной форме.

Так, в модели, которая применяется в программе анализа элек­ тронных схем общего назначения NET-1 [25]. выбран степенной ряд относительно напряжений на р—и-переходах:

Pyv =

4 “

4 -

*4* Яз£/Зэ» Р/ = Ьо

bit/к 4~ М /* * 4~ Ьз1/*к .

(3.31)

В программе ПАРИС [26] в модели транзистора 'используются значе­ ния р, выраженные через токи:

Р - Ро \ d 0 4 - <*,/' 4 - d 2 (/')* 4 - di ( / ') 8 4 - d , (/')4 j,

( з .32)

В модели транзистора для программы SYSCAP [27] значение 6^ вы­ числяется по формуле

h = BN

/'э)< 4" В г (log /'д)8 4- В з (log / ' э)г +

 

 

+ B*(lo*/'.) + AL

(3.33)

где В я — максимальное значение Р у .

В модели интегрального транзистора, описанной в [28, 29], используется аппроксимация экспериментально снятых зависимостей

от тока функциями вида

Р (/г) = A (J’)°exp (С1‘).

(3.34)

где /' — ток, инжектируемый соответствующим р -п -переходом. Коэффициенты усиления но току в схеме включения с ОБ в мо­

дели фирмы Маркони [30] аппроксимируются эмпирическими выра­ жениями

*/V =

+

aJ= И / + &I

V'KfCj)]~K

 

 

 

(3.35)

Рис. 3.12. Зависимость коэффициентов передачи по току интеграль­ ного транзистора от величины токов через соответствующие р—/t-пе­ реходы:

------------ результаты аппроксимации функциями вида Р~Л (/')в ехр(С/').

Выражения (3.31)— (3.35) обеспечивают примерно одинаковую точность аппроксимации коэффициентов 0. Параметры этих выра­ жений определяются в результате обработки экспериментальных дан­ ных по методу наименьших квадратов. В некоторые модели, напри­ мер CIRCUS [31], зависимости от тока вводятся в виде таблиц, по­ лученных при измерениях.

Модуляция ширины базы обусловливает зависимость коэффи­ циента а Л- от напряжения на коллекторном р—л-переходе, след­ ствием чего являются дополнительная конечная проводимость, вно­ симая в выходную цепь транзистора, что влияет на форму выходных характеристик (рис. 3.13), и отрицательная обратная связь между выходной и входной цепями транзистора, определяющая сдвиг вы­ ходных характеристик. Для транзисторов с достаточно тонкой базой

Рис. 3.13. Выходные характеристики

интегрального транзистора, смо­

делированные

на ЭЦВМ с учетом (

--------- ) и без учета (-----------

)

зависимости

от напряжения на коллекторном переходе.

 

Кружками обозначены результаты эксперимента.

 

зависимость коэффициента а^г от напряжения на коллекторном пе­ реходе учитывается в виде [28, 29]

 

аЛГ(^к) = aN(^к) £1+ рдг (£/к)

^

J

(3-36)

где

= (<pr/№) {dWfdUK); № — ширина базы;

UK— напряжение на

коллекторном переходе, при котором измеряется

коэффициент сцу.

118

Отрицательная обратная связь между выходной и входной цепями транзистора учитывается в эквивалентной схеме рис. ЗЛО включением генератора напряжения pcct/к* Фактор обратной связи м<с =

dUs

dUK /9=const определяется соотношени

Нос——ЯкШэ.

Достаточно простой способ учета эффекта Эрлн предложен в ра­

боте [32]:

 

= Р И 0 ) + lUufUN),

(3.37)

где pjv (0) — коэффициент усиления по току при нулевом напряжении на переходе коллектор — база; £/л* — постоянная величина, не зави­ сящая от тока, напряжения или температуры. Методика измерении этой величины изложена в § 3.4.

Лавинное умножение носителей тока учитывается в модели

дением коэффициентов умножения MN и Mj\

 

«N № ) = aviWlV, в/ (Us) = aJMJ.

(3.38)

Зависимость коэффициентов Mjv н Mj от приложенных напряжений Uu а и Uс о описывается простыми полуэмпирическнми соотноше­ ниями

MN

«iV

1---(l/б э /и э прсб) J4

(3.39)

1 (i/к Э/ и к прсб)

 

где п# и tit — показатели, зависящие от материала, градиентов кон­

центрации примеси

и

конфигураций

р—/i-переходов и лежащие

в пределах от 1,5 до

7 [33].

 

При малых временах переключения, соизмеримых с постоянной

времени транзистора та,

существенную

роль играет собственная за­

держка переходных характеристик коэффициентов передачи по то­ ку /3. Эта задержка может быть учтена в модели, если коэффициен­ ты а в системе уравнений (3.25) определяются в процессе интегри­ рования дифференциального уравнения вида [40]

da-tt

, (

\ ,

1

<Юъ\

°/у(0)

 

(3.40)

di

Д

hu +

т#т

dt j “" ~

 

 

 

 

 

что эквивалентно

использованию

двухполюсн

аппроксимации

в комплексной частотной области.

 

 

 

 

При временах переключения, удовлетворяющих условию *>та

величину задержки /злкоэффициента aN(t)

можно

считать

почти

неизменной и интегрировать

(3.40)

не нужно.

Выражение для

доли

тока коллектора, обусловленной передачей тока, инжектированного эмиттером через базу, преобразуется к виду

0

при t <

t3N,

V »

 

(3.41)

{ аы(0) /э. ( ъ л ( т

— 1) при / >

Д .

В комплексной частотной области выражение (3.41) соответствует аппроксимации коэффициента а*? выражением (3.2).

Выражения вида

(3.40) и (3.41) могут быть записаны

не только для

a JV(/), но и для

всех других коэффициентов передачи

по току, вхо­

дящих в систему уравнений (3.25). Значения параметров модели могут существенно изменяться при воздействии на транзистор темпе­

ратуры или радиации.

и температурного по­

Изменения обратного теплового тока

тенциала фт р—л-перехода в зависимости от температуры Г учиты­ ваются по следующим формулам:

't o Р 7> =

't o (7-.) ( - Й Т ^ Р

[ i r

( 7 7 - 7 7 ) ] ’

<3 42)

«Ро Vi) =

«р0 (Го) -

/Сф (Г/ -

Го),

*r = kTi/q,

(3.43)

где /с = 1.37-10- 23

Дж/град — постоянная

Больцмана; q =

1,6 X

ХЮ-|9 К — заряд электрона;

Го= 2 7 3

К — температура абсолютного

нуля; фс(Г0) — ширина запрещенной зоны при температуре абсолют­

ного нуля

(1,11 В для кремния и 0,67 В

для германия);

— темпе­

ратурный

коэффициент, равный

3-10

-4 В/град

для

кремния и

4-10"4 В/град для германия; Г3-— температура р—л-перехода, К.

Температура р—л-перехода

Tj складывается

из

температуры

окружающей среды Г и температуры нагрева р—л-перехода за счет рассеяния мощности в транзисторе:

Г/ = Г + (£ /э/э + г/к/к) BT h

где 0Tj- — тепловое сопротивление между р—л-переходом и окру­ жающей средой. Для кремниевых л—р—л-транзнсторов 0rj= 2O — 400 град/Вт.

Зависимость коэффициентов передачи по току р от температуры аппроксимируется эмпирическими зависимостями. В программе SLIC [2], например, используется выражение

PATW S , и к , T ) = t N (/'э, с/к,. Го) [1 + у ,Д Г + > (АТ1)2]-

Типичные значения температурных коэффициентов для кремниевых

интегральных

транзисторов yi = 6,7-10”3

1/град;

у2 =

— 3,6 X

Х10-5 1/град2.

 

 

 

 

 

Зависимость барьерной емкости р—л-перехода от температуры

описывается следующей формулой [64]:

 

 

 

где

q

(Uv Т) 6 (£/6.Г.)(Г /Г .)\хр [Ьг [Т _г„)].

 

 

 

 

 

 

 

Ь,

У о И - t / о* (7.)

л

 

 

 

иг + и<ь1Го)

Ьг = д( 1 — В^);

е = ( 2 —

3 ) ‘ 1 0 - 4

1 / г р а д

 

V *

 

 

 

для Si и Ge. U0^ и 0^ имеют тот же смысл, что и в формуле (3.23).

Воздействие радиации вызывает изменение таких параметров мо­ дели транзистора, как обратные тепловые токи / 0^‘ коэффициенты

передачи по току tp, омические сопротивления диффузионных слоев r ^t постоянные времени транзистора та#

Соседние файлы в папке книги